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      光刻機是做什么用的

        這將創建芯片生產所需的生產線和功能區域。光刻機發出的光通過圖案化的掩膜版曝光到涂有光刻膠的晶圓上,并且在可見光之后,光刻膠會改變其性能,從而將掩膜版上的圖案復制到晶圓上。

        光刻機可廣泛應用于微納米結構器件的制造,例如微納米流控制晶片處理,微納米光學元件,微納米光柵和NMEMS器件。

        光刻機是制造芯片的關鍵設備之一,并且是價值超過1億美元的人造最先進設備。

        世界上最先進的光刻機:EUV NXE 3350B(EUV極紫外光刻機),被譽為半導體行業終極武器的臺積電(TSMC)認為,英特爾以及歷史上最昂貴的“工具機”將于2017年開始使用7米長試生產過程已成為主要模型。

        光刻機維修

        維護勝于維護。日常維護非常重要。光刻機的維護方法:

        1.每周一次用壓縮空氣清潔每個冷卻風扇。

        2.每周更徹底地清潔機器內部。

        3.定期保養

        4.每月一次在滑軌和螺釘上添加油脂。

        5.每六個月更換一次主軸冷卻液。

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